1.

国際会議録
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1. Enhanced Short-Channel Effects of Sub-50 nm Gate Length MOSFETs with High-k Gate Insulator Films
Fujimura, R. ; Takeda, M. ; Sato, K. ; Ohmi, S.-I. ; Ishiwara, H. ; Iwai, H.
出版情報: ULSI Process Integration : proceedings of the International Symposium.  pp.313-323,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-2
2.

国際会議録
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2. Shift selectivity of the collinear holographic storage system [6282-51 ]
Shimura, T ; Ichimura, S. ; Ashizuka, Y. ; Fujimura, R.
出版情報: Optical Data Storage 2006 : 23-26 April 2006, Montreal, Canada.  pp.62820S-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6282
3.

国際会議録
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3. Effect of dopants on the photorefractive effect in 0.91 Pb(Zn1/3Nb2/3)O3-0.09PbTiO3 (Invited Paper)
Shimura, T. ; Fujisawa, T. ; Satoh, Y. ; Fujimura, R. ; Oda, K. ; Kuroda, K.
出版情報: Advanced materials and devices for sensing and imaging II : 8-10 November 2004, Beijing, China.  pp.249-255,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5633
4.

国際会議録
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4. Collinear technology for holographic versatile disc (HVD) system [6343-102]
Tan, X. ; Horimai, H. ; Shimura, T. ; Ichimura, S. ; Fujimura, R. ; Kuroda, K.
出版情報: Photonics North 2006.  pp.63432W-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6343