1.

国際会議録
国際会議録
1. Demonstrators: a vital step forward for projection mask-less lithography (PML2)
Brandstaetter, C. ; Haugeneder, E. ; Doering, H.-J. ; Elster, T. ; Heinitz, J. ; Fortagne, O. ; Eder-Kapl, S. ; Lammer, G. ; Jochl, P. ; Loeschner, H. ; Reimer, K. ; Saniter, J. ; Talmi, M. ; Eberhardt, R. ; Kroenert, K.
出版情報: EMLC 2005 : 21st European Mask and Lithography Conference : 31 January-3 February, 2005, Dresden, Germany.  pp.188-195,  2005.  Bellingham, Wash.,.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5835
2.

国際会議録
国際会議録
2. Projection maskless lithography
Brandstatter, C. ; Loeschner, H. ; Stengl, G. ; Lammer, G. ; Buschbeck, H. ; Platzgummer, E. ; Doring, H.-J. ; Elster, T. ; Fortagne, O.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VIII.  pp.601-609,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5374