1.

国際会議録
国際会議録
1. STRESS GRADIENTS IN SiO2 THIN FILMS PREPARED BY THERMAL OXIDATION AND SUBJECTED TO RAPID THERMAL ANNEALING
Bjorkman, C. H. ; Fitch, J. T. ; Lucovsky, G.
出版情報: Rapid thermal annealing/chemical vapor deposition and integrated processing : sympoisium held April 25-28, 1989, San Diego, California, U.S.A..  pp.197-202,  1989.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 146
2.

国際会議録
国際会議録
2. RAPID THERMAL ANNEALING OF LOW TEMPERATURE SILICON DIOXIDE FILMS
Fitch, J. T. ; Lucovsky, G.
出版情報: Rapid thermal processing of electronic materials : symposium held April 21-23, 1987, Anaheim California, U.S.A..  pp.89-94,  1987.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 92
3.

国際会議録
国際会議録
3. THE EFFECT OF GROWTH AMBIENTS ON THE LOCAL ATOMIC STRUCTURE OF THERMALLY GROWN SILICON DIOXIDE THIN FILMS
Fitch, J. T. ; Lucovsky, G.
出版情報: SiO[2] and its interfaces : symposium held November 30-December 5, 1987, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.151-156,  1988.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 105
4.

国際会議録
国際会議録
4. THE EFFECT OF GROWTH AMBIENTS ON THE LOCAL ATOMIC STRUCTURE OF THERMALLY GROWN SILICON DIOXIDE THIN FILMS
Fitch, J. T. ; Lucovsky, G.
出版情報: Multilayers : synthesis, properties, and non-electronic applications : symposium held December 2-4, 1987, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.151-156,  1988.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 103