1.

国際会議録
国際会議録
1. Effects of Inversion Layer Quantization and Polysilicon Gate Depletion on Tunneling Current of Ultrathin SiO2 Gate Material
Saha, S. ; Srinivasan, G. ; Rezvani, G. A. ; Farr, M.
出版情報: Ultrathin SiO[2] and high-K materials for USLI gate dielectrics : symposium held April 5-8, 1999, in San Francisco, California, U.S.A..  pp.275-,  1999.  Warrendale, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 567
2.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
2. Optimized Radii for Draw Dies
Siegert, K. ; Farr, M.
出版情報: 1999 SAE International Congress and Exposition: technical paper.  pp.1-10,  1999.  Warrendale, Penn..  Society of Automotive Engineers
シリーズ名: Society of Automotive Engineers technical paper series
シリーズ巻号: 1999