1.

国際会議録
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1. Era of double exposure in 7O nm node DRAM cell
Lim, C.-M. ; Eom, T.-S. ; Kim, S.-M. ; Bok, C. ; Ma, W.-K. ; Park, G.-D. ; Moon, S.-C. ; Kim, J.-W.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.368-376,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
2.

国際会議録
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2. Contact hole resolution enhancement by post exposure amine treatment (CONPEAT) process
Koh, C.-W. ; Kim, J.-S. ; Choi, C.-I. ; Eom, T.-S. ; Kwon, W.-T. ; Jung, J.-C. ; Bok, C.-K. ; Shin, K.-S.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XIX.  Part Two  pp.793-798,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4690
3.

国際会議録
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3. Comparative study of chromeless and attenuated phase shift mask for 0.3-k1 ArF lithography of DRAM
Eom, T.-S. ; Lim, C.-M. ; Kim, S.-M. ; Kim, H.-B. ; Oh, S.-Y. ; Ma, W.-K. ; Moon, S.-C. ; Shin, K.S.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Three  pp.1310-1320,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
4.

国際会議録
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4. Limitation of optical lithography for various resolution enhancement technologies
Eom, T.-S. ; Ahn, C.-N. ; Park, D.-H. ; Koh, C.-W. ; Bok, C.-K.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1575-1583,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
5.

国際会議録
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5. Feasibility studies of ArF chromeless mask (CLM) for sub-80-nm era
Eom, T.-S. ; Lim, C.-M. ; Sung, M.G. ; Moon, S.-C. ; Shin, K.S.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1287-1296,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
6.

国際会議録
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6. Diffraction analysis of customized illumination technique
Lim, C.-M. ; Kim, S.-M. ; Eom, T.-S. ; Moon, S.-C. ; Shin, K.S.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1297-1304,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377