1.

国際会議録

国際会議録
Schmidt, M. ; Ludsteck, A. ; Wiest, F. ; Schuhe, J. ; Eisele, I.
出版情報: Advanced gate stack, source/drain and channel engineering for Si-based CMOS, new materials, processes, and equipment : proceedings of the international symposium.  pp.311-318,  2005.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2005-05
2.

国際会議録

国際会議録
Hammerl, E. ; Wittmann, F. ; Messarosch, J. ; Eisele, I. ; Huber, V. ; Oppolzer, H.
出版情報: Silicon molecular beam epitaxy : symposium held April 29-May 3, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.27-34,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 220
3.

国際会議録

国際会議録
Ludsteck, A, ; Schulze, J. ; Eisele, I. ; Dietl, W. ; Chung, H. ; Nenyei, Z. ; Bergmaier, A. ; Dollinger, G.
出版情報: Silicon nitride, silicon dioxide thin insulating films, and other emerging dieletrics VIII : proceedings of the international symposium.  pp.232-241,  2005.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2005-01
4.

国際会議録

国際会議録
Ghaderi, K. ; Hobler, G. ; Budil, M. ; Poetzl, H. ; Pichler, P. ; Ryssel, H. ; Hansch, W. ; Eisele, I. ; Tian, C. ; Stingeder, G.
出版情報: Proceedings of the Seventh International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.613-624,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-10
5.

国際会議録

国際会議録
Schulze, J. ; Eisele, I. ; Thompson, P.E. ; Jernigan, G. ; Bassim, N. ; Suligoj, T. (University of the German Federal Armed Forces Munich, US Naval Research Laboratory, University of Zagreb)
出版情報: SiGe: materials, processing, and devices : proceedings of the First international symposium.  pp.719-730,  2004.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2004-07
6.

国際会議録

国際会議録
Cabellero, J. V. ; Avila, R. E. ; Fuenzalida, V. M. ; Eisele, I.
出版情報: Amorphous and crystalline insulating thin films--1996 : symposium held December 2-4, 1996, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.355-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 446
7.

国際会議録

国際会議録
Hansch, W. ; Eisele, I. ; Kibbel, H. ; Konig, U.
出版情報: Ultraclean semiconductor processing technology and surface chemical cleaning and passivation : Symposum held April 17-19, 1995, San Francisco, California, USA.  pp.345-,  1995.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 386
8.

国際会議録

国際会議録
Caballero, J. V. ; Fuenzalida, V. M. ; Avila, R. ; Eisele, I.
出版情報: Polycrystalline thin films II : structure, properties, and applications : symposium held November 27-December 1, 1995, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.189-,  1996.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 403
9.

国際会議録

国際会議録
Gossner, H. ; Fehlauer, G. ; Kiunke, W. ; Eisele, I. ; Stolz, M. ; Hintermaier, M. ; Knapek, E.
出版情報: Molecularly designed ultrafine/nanostructured materials : symposium held April 4-8, 1994, San Francisco, California, U.S.A..  pp.393-,  1994.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 351
10.

テクニカルペーパー

テクニカルペーパー
Rusak, Z. ; Eisele, I.
出版情報: AIAA meeting papers on disc.  2005.  [Reston, Va.].  American Institute of Aeronautics and Astronautics
シリーズ名: AIAA Paper : AIAA Fluid Dynamics Conference
シリーズ巻号: 35th