1.

国際会議録
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1. Energy and Angular Distribution of Ions Extracted from a Large Hole in Contact with a High Density Plasma
Kim, C.K. ; Economou, D.J.
出版情報: Fundamental gas-phase and surface chemistry of vapor-phase deposition II and process control, diagnostics, and modeling in semiconductor manufacturing IV : proceedings of the international symposium.  pp.405-414,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-13
2.

国際会議録
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2. A TCAD Simulation Tool for Inductively Coupled Plasmas and Ex- perimental Validation
Economou, D.J. ; Wise, R.S. ; Lymberopoulos, D.P.
出版情報: Proceedings of the eleventh International Symposium on Plasma Processing.  pp.11-19,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-12
3.

国際会議録
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3. Direct Simulation Monte Carlo (DSMC) of Low-Pressure Semicon- ductor Manufacturing Processes
Economou, D.J. ; Bartel, T.J.
出版情報: Proceedings of the eleventh International Symposium on Plasma Processing.  pp.70-82,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-12
4.

国際会議録
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4. Parametric Study of Plasma Uniformity in a Dome-Shaped Inductively Coupled Plasma Reactor
Economou, D.J. ; Feldsien, J.
出版情報: Proceedings of the Second International Symposium on Process Control, Diagnostics, and Modeling in Semiconductor Manufacturing.  pp.260-267,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-9
5.

国際会議録
国際会議録
5. Radical Beam Etching: Application to Patterning of YBa2Cu306+x High Tc Superconducting Thin Films
Deshmukh, S. ; Athavale, S. ; Economou, D.J.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Highly Selective Dry Etching and Damage Control.  pp.275-285,  1993.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1993-21
6.

国際会議録
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6. A Two-Dimensional Model of Chemical Vapor Infiltration with Radio Frequency Heating
Midhas, V. ; Economou, D.J.
出版情報: Chemical vapor deposition : proceedings of the Fourteenth International Conference and EUROCVD-11.  pp.528-535,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-25
7.

国際会議録
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7. Influence of Substrate Placement on Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition of Diamond
Koemtzopoulos, C.R. ; Economou, D.J. ; Pollard, R.
出版情報: AIchE 1994 Annual Meeting : November 13-18 San Francisco Hilton and Towers Hotel, San Francisco, California.  1994.  New York.  American Institute of Chemical Engineers
シリーズ名: AIChE meeting [papers]
シリーズ巻号: 1994
8.

国際会議録
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8. Modeling Potential Distribution Transport and Reaction in Gas Plasmas
Economou, D.J.
出版情報: Proceedings of the second International Symposium on Electrochemical Processing of Tailored Materials.  pp.1-21,  1993.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1993-12
9.

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9. Chemical vapor deposition of Aluminum and Gallium Nitride thin films from metal organic precursors
Economou, D.J. ; Hoffman, D.M. ; Rangarajan, S.P. ; Athavale, S.D. ; Liu, J.-R. ; Zheng, Z. ; Chu, W.-K.
出版情報: Proceedings of the First Symposium on III-V Nitride Materials and Processes.  pp.69-75,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-11