1.

国際会議録
国際会議録
1. Direct Simulation Monte Carlo of Inductively Coupled Plasma and Comparison with Experiment
Johannes, J. ; Bartel, T. ; Hebner, G. ; Woodworth, J. ; Economou, D.
出版情報: Proceedings of the eleventh International Symposium on Plasma Processing.  pp.20-38,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-12
2.

国際会議録
国際会議録
2. SELF-CONSISTENT SIMULATIONS OF RF GLOW DISCHARGES COUPLED WITH NEUTRAL TRANSPORT AND REACTION
Economou, D. ; Lymberopoulos, D.P.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Process Physics and Modeling in Semiconductor Technology.  pp.471-482,  1993.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1993-6
3.

国際会議録
国際会議録
3. Multiscale Modeling in Plasma Engineering and Parallels to Electrochemical Engineering
Economou, D.
出版情報: Tutorials in electrochemical engineering - mathematical modeling : proceedings of the International Symposium.  pp.296-302,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-14
4.

国際会議録
国際会議録
4. Modeling and Simulation of Inductively Coupled High Density Plasma Sources
Economou, D. ; Lymberopoulos, D.
出版情報: Proceedings of the tenth symposium on plasma processing.  pp.1-12,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-20
5.

国際会議録
国際会議録
5. Modeling and Simulation of Two-Dimensional Reactive Plasma Flow in Inductively Coupled Reactors
Lymberopoulos, D. ; Wise, R. ; Economou, D.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Process control, Diagnostics, and Modeling in Semiconductor Manufacturing.  pp.588-595,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-2
6.

国際会議録
国際会議録
6. Two-Dimensional Simulation of Pulsed Power Electronegative Plasmas
Ramamurth, B. ; Economou, D.
出版情報: Fundamental gas-phase and surface chemistry of vapor-phase deposition II and process control, diagnostics, and modeling in semiconductor manufacturing IV : proceedings of the international symposium.  pp.308-315,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-13