1.

国際会議録
国際会議録
1. Three Dimensional Electron-Positron Momentum Density in 2H-NbSe2
Nakashima,H. ; Kubota,T. ; Kondo,H. ; Tanigawa,S. ; Umehara,I. ; Ebihara,T. ; Nagai,N. ; Onuki,Y. ; Takito,K.
出版情報: Positron annihilation : Proceedings of the 9th International Conference on Positron Annihilation, August 26-31, 1991, Szombathely, Hungary.  Pt.2  pp.775-778,  1992.  Aederlmannsdorf, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 105-110
2.

国際会議録
国際会議録
2. 150-nm dense/isolated contact hole study with Canon IDEAL technique
Ebihara,T. ; Rhyins,P. ; Oga,T. ; Martin,P.M. ; Sweis,M.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.1068-1076,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562
3.

国際会議録
国際会議録
3. SCAA mask exposures and Phase Phirst designs for 100 nm and below
Levenson,M.D. ; Ebihara,T. ; Yamachika,M.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.817-826,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346