1.

国際会議録
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1. Benefit of ArF immersion lithography in 55 nm logic device manufacturing
T. Uchiyama ; T. Tamura ; K. Yoshimochi ; P. Graupner ; H. Bakker ; E. van Setten ; K. Morisaki
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
2.

国際会議録
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2. Performance of a 1.35NA ArF immersion lithography system for 40-nm applications
J. de Klerk ; C. Wagner ; R. Droste ; L. Levasier ; L. Jorritsma ; E. van Setten ; H. Kattouw ; J. Jacobs ; T. Heil
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
3.

国際会議録
国際会議録
3. Pushing the boundary: low-k1 extension by polarized illumination
E. van Setten ; W. de Boeij ; B. Hepp ; N. le Masson ; G. Swinkels ; M. van de Kerkhof
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
4.

国際会議録
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4. MacroCD contact ellipticity measurement for lithography tool qualification
I. Englard ; E. van Setten ; G. Janssen ; P. Vanoppen ; I. Minnaert-Janssen ; F. Duray ; O. Adan ; A. Moran ; L. Gershtein ; R. Peltinov
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
5.

国際会議録
国際会議録
5. Masks for flash memory gates for the 45nm node: binary or attenuated?
E. van Setten ; A. Engelen ; J. Finders ; M. Dusa
出版情報: EMLC 2007 : 23rd european mask and lithography conference : 22-25 January 2007, Grenoble, France.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6533
6.

国際会議録
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6. Imaging performance optimization for hyper-NA scanner systems in high volume production
M. van de Kerkhof ; E. van Setten ; A. Engelen ; V. Plachecki ; H. Liu
出版情報: Optical Microlithography XXI.  2  pp.69241W-1-69241W-13,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924
7.

国際会議録
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7. The flash memory battle: How low can we go?
E. van Setten ; O. Wismans ; K. Grim ; J. Finders ; M. Dusa
出版情報: Optical Microlithography XXI.  3  pp.69244I-1-69244I-14,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924
8.

国際会議録
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8. Polarization-induced astigmatism caused by topographic masks
J. Ruoff ; J. T. Neumann ; E. Schmitt-Weaver ; E. van Setten ; N. le Masson
出版情報: Photomask technology 2007.  1  pp.67301T-1-67301T-15,  2007.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6730
9.

国際会議録
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9. Characterizing the imaging performance of flash memory masks using AIMS
E. van Setten ; O. Wismans ; K. Grim ; J. Finders ; M. Duso
出版情報: EMLC 2008 : 24th European Mask and Lithography Conference : 21-24 January 2008, Dresden, Germany.  pp.67920K-1-67920K-12,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6792