1.

国際会議録
国際会議録
1. Meeting overlay requirements for future technology nodes with in-die overlay metrology
B. Schulz ; R. Seltmann ; J. Busch ; F. Hempel ; E. Cotte ; B. Alles
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
2.

国際会議録
国際会議録
2. An empirical approach adressing the transfer of mask placement errors during exposure
B. Alles ; B. Simeon ; E. Cotte ; T. Wandel ; B. Schulz ; R. Seltmann
出版情報: EMLC 2007 : 23rd european mask and lithography conference : 22-25 January 2007, Grenoble, France.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6533
3.

国際会議録
国際会議録
3. Modeling the work piece charging during e-beam lithography
B. Alles ; E. Cotte ; B. Simeon ; T. Wandel
出版情報: Optical Microlithography XXI.  3  pp.69244P-1-69244P-10,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924
4.

国際会議録
国際会議録
4. Mask characterization for double patterning lithography
K. Bubke ; E. Cotte ; J. H. Peters ; R. de Kruif ; M. Dusa
出版情報: Photomask technology 2007.  1  pp.67301H-1-67301H-10,  2007.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6730