1.

国際会議録
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1. 0.11-μm imaging in KrF lithography using dipole illumination
Eurlings,M. ; Setten,E.van ; Torres,J.A. ; Dusa,M.V. ; Socha,R.J. ; Capodieci,L. ; Finders,J.
出版情報: Lithography for semiconductor manufacturing II : 30 May-1 June, 2001, Edinburgh, UK.  pp.266-278,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4404
2.

国際会議録
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2. Study of mask aerial images to predict CD proximity and line end shortening of resist patterns
Dusa,M.V. ; Ridley,A. ; So,B.
出版情報: 17th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.  pp.148-159,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4349
3.

国際会議録
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3. Overlay target design characterization and optimization for tungsten CMP
Hsu,S.D. ; Dusa,M.V. ; Vlassak,J. ; Harker,C. ; Zimmerman,M.
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XII : 23-25 February 1998, San Clara, California.  pp.360-370,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3332
4.

国際会議録
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4. Nonstandard bleaching behavior in DNQ systems:modeling and lithographic consequences
Nicolau,D.V. ; Yoshikawa,S. ; Dusa,M.V.
出版情報: Device and process technologies for MEMS and microelectronics : 27-29 October 1999, Royal Pines Resort, Queensland, Australia.  pp.274-281,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3892
5.

国際会議録
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5. CD control comparison for sub-0.18-ｦﾌm patterning using 248-nm lithography and strong resolution enhancement techniques
Vandenberghe,G. ; Marschner,T. ; Ronse,K. ; Socha,R.J. ; Dusa,M.V.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part1  pp.228-238,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
6.

国際会議録
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6. KrF lithography for 130 nm
Finders,J. ; Schoot,J.B.van ; Vanoppen,P. ; Dusa,M.V. ; Socha,R.J. ; Vandenberghe,G. ; Ronse,K.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part1  pp.192-205,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
7.

国際会議録
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7. Bionanostructures built on e-beam-assisted functionalized polymer surfaces
Nicolau,D.V. ; Taguchi,T. ; Dusa,M.V. ; Yoshikawa,S.
出版情報: Smart materials, structures, and integrated systems : 11-13 December 1997, Adelaide, Australia.  pp.222-227,  1997.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3241
8.

国際会議録
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8. CD error sensitivity to "sub-killer" defects at k1 near 0.4:II
Nakagawa,K.H. ; Chen,J.F. ; Socha,R.J. ; Dusa,M.V. ; Laidig,T.L. ; Wampler,K.E. ; Caldwell,R.F. ; Broeke,D.J.van den
出版情報: 19th Annual Symposium on Photomask Technology : 15-17 September 1999, Monterey, California.  Part2  pp.893-904,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3873
9.

国際会議録
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9. Dual damascene photo process using negative-tone resist
Shi,X. ; Fung,A.C. ; Hsu,S. ; Li,Z. ; Nguyen,T. ; Socha,R.J. ; Conley,W.E. ; Dusa,M.V.
出版情報: Advances in resist technology and processing XVII : 28 February - 1 March 2000, Santa Clara, USA.  Part2  pp.835-842,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3999
10.

国際会議録
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10. Forbidden pitches for 130-nm lithography and below
Socha,R.J. ; Dusa,M.V. ; Capodieci,L. ; Finders,J. ; Chen,J.F. ; Flagello,D.G. ; Cummings,K.D.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part2  pp.1140-1155,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000