1.

国際会議録
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1. Intra-wafer CDU characterization to determine process and focus contributions based on scatterometry metrology
Dusa, M. ; Moerman, R. ; Singh, B. ; Friedberg, P. ; Hoobler, R. ; Zavecs, T.
出版情報: Data analysis and modeling for process control : 26-27 February 2004, Santa Clara, California, USA.  pp.93-104,  2004.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5378
2.

国際会議録
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2. An integrated lithography concept with application on 45-nm % pitch flash memory devices (Invited Paper) [6154-21]
Dusa, M. ; Engelen, A. ; Finders, J.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.61540L-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
3.

国際会議録
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3. Aberration's impact on subresolution contact hole process windows in ultrathin imaging resist
Reilly, M.T. ; Finders, J. ; Dusa, M.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.610-617,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
4.

国際会議録
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4. Compensating measured intra-wafer ring oscillator stage delay with intra-wafer exposure dose corrections [6152-71]
Verhaegen, S. ; Nackaerts, A. ; Dusa, M. ; Carpaij, R. ; Vandenberghe, G. ; Finders, J.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XX.  pp.61521Y-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6152
5.

国際会議録
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5. Device manufacturing critical evaluation of focus analysis methods
Roberts, W.R. ; Mcuillan, M. ; Louka, M.N. ; Zavecz, T. ; Reynolds, P. ; Dusa, M.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1929-1940,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
6.

国際会議録
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6. Interferometric-probe aberration monitors: aerial image and in-resist performance
Robins, G.C. ; Dusa, M. ; Geh, B. ; Neureuther, A.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.309-317,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256
7.

国際会議録
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7. Optical lithography in the sub-50-nm regime
Flagello, D.G. ; Arnold, B. ; Hansen, S. ; Dusa, M. ; Socha, R.J. ; Mulkens, J. ; Garreis, R.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.21-33,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
8.

国際会議録
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8. Interferometric-probe aberration monitor performance in the production environment
Robins, G.C. ; Neureuther, A.R. ; Dusa, M. ; Kye, J.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1971-1982,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
9.

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9. Application challenges with double patterning technology (DPT) beyond 45 nm [6349-75]
Park, J. ; Hsu, S. ; Van Den Broeke, D. ; Chen, J. F. ; Dusa, M. ; Socha, R. ; Finders, J. ; Vleeming, B. ; van Oosten, A. ; Nikolsky, P. ; Wiaux, V. ; Hendrickx, E. ; Bekaert, J. ; Vandenberghe, G.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.634922-634922,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
10.

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10. Automatic pitch decomposition for improved process window when printing dense features at keff<0.20 [6283-102]
Huckabay, J. ; Staud, W. ; Naber, R. ; Dusa, M. ; Flagello, D. ; Socha, R.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.62830T-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283