1.

国際会議録
国際会議録
1. Performance optimization of the double-exposure slternating PSM for (sub-) 100-nm ICs
Vandenberghe,G.N. ; Driessen,F. ; Adrichem,P.J.van ; Ronse,K. ; Li,J. ; Karklin,L.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.394-405,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562
2.

国際会議録
国際会議録
2. New generation photomasks: 193-nm defect printability study
Karklin,L. ; Adrichem,P.van ; Driessen,F. ; Mazor,S.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.386-393,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562