1.

国際会議録
国際会議録
1. Use of silicon-versus-layout verification (SiVL) in process control of wafer lithography and mask-making metrology
Adrichem, P.J.M. ; Driessen, F.A.J.M. ; Hasselt, K.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVII.  2  pp.1019-1025,  2003.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5038
2.

国際会議録
国際会議録
2. Full phase-shifting methodology for 65-nm node lithography
Pierrat, C. ; Driessen, F.A.J.M. ; Vandenberghe, G.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.282-293,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
3.

国際会議録
国際会議録
3. Mask error enhancement-factor (MEEF) metrology using automated scripts in CATS
van Adrichem, P.J.M. ; Driessen, F.A.J.M. ; van Hasselt, K. ; Brueck, H.-J.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.551-557,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889