1.

国際会議録
国際会議録
1. Efficient approach to improving pattern fidelity with multi-OPC model and recipe [6349-182]
Do, M. ; Kang, J. ; Choi, J. ; Lee, J. ; Lee, Y. ; Kim, K. ; Dongbu Electronics (South Korea)
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63494P-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
2.

国際会議録
国際会議録
2. Simulation based post OPC verification to enhance process window critical failure analysis and yield [6154-137]
Kang, J. H. ; Chol, J. Y. ; Yun, K.H. ; Do, M. ; Lee, Y.S. ; Kim, K.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.61543J-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154