1.

国際会議録
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1. Systematic investigation of CD metrology tool response to sidewall profile variation on a COG test mask [6281-16]
Gans, F. ; Liebe, R. ; Heins, Th. ; Richter, J. ; Hasler-Grohne, W. ; Frase, G. C. ; Bodermann, B. ; Czerkas, S. ; Dirscherl, K. ; Bosse, H.
出版情報: EMLC 2006 : 22nd European Mask and Lithography Conference : 23-26 January 2006, Dresden, Germany.  pp.62810D-,  2006.  Bellingham, Wash.,.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6281
2.

国際会議録
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2. Results of a round robin measurement on a new CD mask standard
Gans, F. ; Liebe, R. ; Richter, J. ; Schatz, Th. ; Hauffe, B. ; Hillmann, F. ; Dobereiner, S. ; Bruck, H.-J. ; Scheuring, G. ; Brendel, B. ; Bettin, L. ; Roth, K.-D. ; Steinberg, W. ; Schluter, G. ; Speckbacher, P. ; Sedlmeier, W. ; Scherubl, T. ; HaBler-Grohne, W. ; Frase, C. G. ; Czerkas, S. ; Dirscherl, K. ; Bodermann, B. ; Mirande, W. ; Bosse, H.
出版情報: EMLC 2005 : 21st European Mask and Lithography Conference : 31 January-3 February, 2005, Dresden, Germany.  pp.122-133,  2005.  Bellingham, Wash.,.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5835
3.

国際会議録
国際会議録
3. Developments on the NMi-VSL traceable scanning probe microscope
Dirscherl, K. ; Koops, K. R.
出版情報: Recent Developments in Traceable Dimensional Measurements II.  pp.173-177,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5190
4.

国際会議録
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4. Alternative measuring modes for scanning probe instrumentation
Koops, K. R. ; Dirscherl, K.
出版情報: Recent Developments in Traceable Dimensional Measurements II.  pp.456-459,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5190
5.

国際会議録
国際会議録
5. Calibration procedures and application of the PTB photomask CD standard [5992-159]
Haβler-Grohne, W. ; Frase, C. G. ; Czerkas, S. ; Dirscherl, K. ; Bodermann, B. ; Mirande, W. ; Ehret, G. ; Bosse, H.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59924O-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992