1.

国際会議録
国際会議録
1. Correlations between dissolution data and lithography of various resists
DellaGuardia, R. ; Huang, W. -S. ; Chen, K. -J. R. ; Kang, D.
出版情報: Microlithography 1999 : advances in resist technology and processing XVI : 15-17 March 1999, Santa Clara, California.  pp.316-328,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3678
2.

国際会議録
国際会議録
2. Methods for comparing contact hole shrinking techniques with 248-nm single layer and bilayer photoresists
Petrillo, K.E. ; Simons, J.P. ; DellaGuardia, R.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XIX.  Part Two  pp.741-753,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4690
3.

国際会議録
国際会議録
3. 193-nm lithography and resist reflow for the BEOL
DellaGuardia, R.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.853-860,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
4.

国際会議録
国際会議録
4. BEOL lithography for early development at the 65-nm node
DellaGuardia, R. ; Kwong, R.W. ; Li, W. ; Lawson, P. ; Burkhardt, M. ; Grauer, I.C. ; Wu, Q. ; Angyal, M. ; Hichri, H. ; Melville, I. ; Kumar, K. ; Lin, Y. ; Holmes, S.J. ; Varanasi, R. ; Spooner, T. ; McHerron, D.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.980-987,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377