1.

国際会議録
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1. Compaction effects of radiation on Zerodur
Davis, M.J. ; Fainberg, J.
出版情報: Optical materials and structures technologies :4-7 August 2003, San Diego, California.  pp.38-49,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5179
2.

国際会議録
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2. Deposition of Thin Film Transition Metal Oxides (TMO) on Glass by Combustion Chemical Vapour Deposition (C-CVD)
Benito, G. ; Davis, M.J. ; Hurst, S.J. ; Sheel, D.W. ; Pemble, M.F.
出版情報: Chemical vapor deposition XVI and EUROCVD 14 : proceedings of the international symposium.  pp.557-564,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-8
3.

国際会議録
国際会議録
3. Atmospheric-Pressure Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition (AP-PE-CVD) for Growth of Thin Films at Low Temperature
Davis, M.J. ; Tsanos, M. ; Lewis, J. ; Sheel, D.W. ; Pemble, M.E.
出版情報: Chemical vapor deposition XVI and EUROCVD 14 : proceedings of the international symposium.  pp.668-675,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-8
4.

国際会議録
国際会議録
4. Optical diagnostics for classifying stages of dental erythema
Davis, M.J. ; Splinter, R. ; Lockhart, P. ; Brennan, M. ; Fox, P.C.
出版情報: Applications of photonic technology 5 : closing the gap between theory, development, and application : Photonics North 2002.  pp.26-33,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4833
5.

国際会議録
国際会議録
5. Improved materials meeting the demands for EUV substrates
Mitra, I. ; Alkemper, J. ; Nolte, U. ; Engel, A. ; Mueller, R. ; Ritter, S. ; Hack, H. ; Megges, K. ; Kohlmann, H. ; Pannhorst, W. ; Davis, M.J. ; Aschke, L. ; Knapp, K.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VII.  1  pp.219-226,  2003.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5037
6.

国際会議録
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6. Thermal expansion behavior of proposed EUVL substrate materials
Mitra, I. ; Davis, M.J. ; Alkemper, J. ; Mueller, R. ; Kohlmann, H. ; Aschke, L. ; Moersen, E. ; Ritter, S. ; Hack, H. ; Pannhorst, W.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VI.  Part One  pp.462-468,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4688
7.

国際会議録
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7. Optimized glass-ceramic substrate materials for EUVL applications
Mitra, I. ; Alkemper, J. ; Mueller, R. ; Nolte, U. ; Engel, A. ; Hack, H. ; Kohlmann, H. ; Wittmer, V. ; Pannhorst, W. ; Davis, M.J. ; Aschke, L. ; Knapp, K.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VIII.  pp.96-103,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5374
8.

国際会議録
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8. Experiments with Bose-Einstein condensates on an atom chip
Upcroft, B. ; Vale, C.J. ; Ratnapala, A. ; Holt, S. ; Davis, M.J. ; Campey, T. ; Heckenberg, N.R. ; Rubinsztein-Dunlop, H.
出版情報: Nanomanipulation with Light.  pp.185-193,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5736