1.
国際会議録
Harrison,D.A. ; Lam,J.C. ; Li,G.G. ; Forouhi,A.R. ; Dao,G.T.
出版情報:
19th Annual Symposium on Photomask Technology : 15-17 September 1999, Monterey, California . Part2 pp.844-852, 1999. Bellingham, Wash.. SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
3873
2.
国際会議録
Rao,V. ; Panning,E.M. ; Liao,L. ; Hutchinson,J.M. ; Grenville,A. ; Holl,S.M. ; Bruner,D. ; Balasubramanian,R. ; Kuse,R. ; Dao,G.T. ; Zheng,J.-F. ; Orvek,K.J. ; Langston,J.C. ; Lo,F.-C.
出版情報:
Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA . Part2 pp.1574-1581, 2000. Bellingham, Wash., USA. SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
4000
3.
国際会議録
Qian,Q.-D. ; Dao,G.T. ; Yan,P.-Y. ; Leon,F.A.
出版情報:
15th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management . pp.473-479, 1995. Bellingham, Wash.. SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
2621
4.
国際会議録
Dao,G.T. ; Liu,G. ; Snyder,A. ; Farnsworth,J.N.
出版情報:
Photomask and X-Ray Mask Technology III . pp.359-370, 1996. Bellingham, Wash.. SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
2793
5.
国際会議録
Semke,W.H. ; Siewert,L.K. ; Mikkelson,A.R. ; Risius,E.A. ; Tang,N. ; Engelstad,R.L. ; Lovell,E.G. ; Zheng,J.-F. ; Dao,G.T.
出版情報:
20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology . pp.207-216, 2000. Bellingham, Wash.. SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
4186
6.
国際会議録
Zheng,J.-F. ; Kuse,R. ; Ramamoorthy,A. ; Dao,G.T. ; Lo,F.-C.
出版情報:
20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology . pp.767-773, 2000. Bellingham, Wash.. SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
4186
7.
国際会議録
Dao,G.T. ; Borodovsky,Y.A.
出版情報:
20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology . pp.259-267, 2000. Bellingham, Wash.. SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
4186
8.
国際会議録
Tsai,W. ; Chen,F. ; Kamna,M. ; Chegwidden,S. ; Labovitz,S.M. ; Farnsworth,J.N. ; Dao,G.T.
出版情報:
Photomask and X-Ray Mask Technology V . pp.149-162, 1998. Bellingham, Wash.. SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
3412
9.
国際会議録
Reu,P.L. ; Mikkelson,A.R. ; Schlax,M.P. ; Cotte,E.P. ; Siewert,L.K. ; Engelstad,R.L. ; Lovell,E.G. ; Dao,G.T. ; Zheng,J.-F.
出版情報:
Optical Microlithography XIV . 4346 pp.1166-1174, 2001. Bellingham, Wash.. SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
4346