1.

国際会議録
国際会議録
1. Use of a Langmuir Probe for ECR Plasma Characterization
Daltrini, A. M. ; Moshkalyov, S. A. ; Ramos, A. C. S. ; Swart, J. W.
出版情報: Microelectronics technology and devices : SBMICRO 2004 : proceedings of the nineteenth international symposium.  pp.375-380,  2004.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2004-03
2.

国際会議録
国際会議録
2. Silicon Oxide Sacrificial Layer for MEMS Applications
Biasotto, C. ; Boscoli, F. A. ; Teixeira, R. C. ; Ramos, A. C. S. ; Diniz, J. A. ; Daltrini, A. M. ; Moshkalyov, S. A. ; Doi, I.
出版情報: Microelectronics technology and devices : SBMICRO 2005 : proceedings of the twentieth international symposium.  pp.389-397,  2005.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2005-08
3.

国際会議録
国際会議録
3. Langmuir Probe and Optical Emission Spectroscopy Study of an Inductively Coupled Plasma Source
Daltrini, A. M. ; Monteiro, M. J. R. ; Kostryukov, A. ; Moshkalyov, S. A. ; Machida, M. ; Besseler, E.
出版情報: Microelectronics technology and devices : SBMICRO 2005 : proceedings of the twentieth international symposium.  pp.245-253,  2005.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2005-08
4.

国際会議録
国際会議録
4. Inductively Coupled Plasma Test Reactor Development and Plasma Measurements
Monteiro, M. J. R. ; Kostryukov, A. ; Daltrini, A. M. ; Moshkalyov, S. A. ; Machida, M. ; Besseler, E.
出版情報: Microelectronics technology and devices : SBMICRO 2005 : proceedings of the twentieth international symposium.  pp.226-234,  2005.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2005-08