1.

国際会議録
国際会議録
1. Alt- PSM of contact with phase-assist feature for 65-nm node
You, J.-W. ; Shin, J.-J. ; Chang, C.-H. ; Kung, L.-W. ; Chang, B.-C. ; Dai, C.-M. ; Gau, T.-S. ; Lin, B.J.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.1263-1272,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
2.

国際会議録
国際会議録
2. Mesa or trench type for chromeless phase-shift lithography from photolithographic performance point of view
Shi, X. ; Chen, J.F. ; Hsu, S. ; Van Den Broeke, D.J. ; Socha, R.J. ; Chang, C.H. ; Dai, C.-M.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.1304-1312,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
3.

国際会議録
国際会議録
3. Defect dispositiong using mask printability analysis on alternating phase-shifting masks
Chang, C.-H. ; Hsieh, C.-H. ; Tzu, S.-D. ; Dai, C.-M. ; Lin, B. J. ; Pang, L. ; Qian, Q.-D. ; Chen, J.-H. ; Huang, J. H.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.622-629,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754