1.

国際会議録
国際会議録
1. Low Temperature Surface Nitridation Processes for Dielectric-Ge Interfaces
H.J. Wadsworth ; S. Bhattacharya ; F. Ruddell ; D.W. McNeill ; N. Mitchell
出版情報: SiGe and Ge, materials, processing, and devices.  pp.531-537,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 3(7)
2.

国際会議録
国際会議録
2. Low Temperature Bonding of PECVD Silicon Dioxide Layers
P.T. Baine ; M. Bain ; D.W. McNeill ; H.S. Gamble ; M. Armstrong
出版情報: Semiconductor wafer bonding 9 : science, technology, and applications.  pp.165-173,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 3(6)