1.

国際会議録
国際会議録
1. Challenges in FEOL Logic Device Integration for 32 nm Technology Node and Beyond
D. Park ; M. Chudzik ; H. Yin
出版情報: ULSI process integration 5.  pp.371-377,  2007.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 11(6)
2.

国際会議録
国際会議録
2. Present and Future of Si-Based Transistor Technology for Memories
D. Park ; B. Ryu
出版情報: Silicon materials science and technology X.  pp.11-26,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 2(2)
3.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
3. MEMS-Based Fuel Reformer Integrated with Catalytic Combustor Using CarbonNanoTubes as Catalyst Supports
D. Park ; T. Kim ; C. Kim ; S. Kwon ; E. Yoon
出版情報: AIAA meeting papers on disc.  2006.  Reston, Va.  American Institute of Aeronautics and Astronautics
シリーズ名: AIAA Paper : International Energy Conversion Engineering Conference and Exhibit (IECEC)
シリーズ巻号: 2006
4.

国際会議録
国際会議録
4. A method for generating assist-features in full-chip scale and its application to contact layers of sub-70nm DRAM devices
D. Park ; S. Kim ; C. Hwang ; S. Lee ; H. Cho ; J. Moon
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
5.

国際会議録
国際会議録
5. Novel process proximity correction by the pattern-to-pattern matching method with DBM
D. Park ; J. Choi ; H. Yune ; C. Kim
出版情報: Lithography Asia 2008.  2  pp.71403K-1-71403K-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7140
6.

国際会議録
国際会議録
6. Optimization of BARC process for hyper-NA immersion lithography
K. Lee ; J. Lee ; S. Lee ; D. Park ; C. Bok
出版情報: Advances in resist materials and processing technology XXV.  2  pp.69232R-1-69232R-9,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6923
7.

国際会議録
国際会議録
7. Improvement of crosstalk on 5M CMOS image sensor with 1.7x1.7μm2 pixels
C. Koo ; H. Kim ; K. Paik ; D. Park ; K. Lee ; Y. Park ; C. Moon ; S. Lee ; S. Hwang ; D. Lee ; J. Kong
出版情報: Ultrafast phenomena in semiconductors and nanostructure materials XI and semiconductor photodetectors IV : 22-24 January 2007, San Jose, California, USA.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6471
8.

国際会議録
国際会議録
8. Color balancing based upon gamut and temporal correlations
S. Kim ; H. Lee ; B. Kang ; S. Lee ; D. Park ; C. Kim
出版情報: Human vision and electronic imaging XII : 29 January-1 February 2007, San Jose, California, USA.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6492
9.

国際会議録
国際会議録
9. Visibility improvement based on gray matching experiment between dark and ambient condition in mobile display
I. Kim ; H. Ok ; D. Park
出版情報: Human vision and electronic imaging XII : 29 January-1 February 2007, San Jose, California, USA.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6492
10.

国際会議録
国際会議録
10. Highly accurate model-based verification using SEM image calibration method
B. Cho ; D. Park ; D. Chang ; J. Choi ; C. Kim ; D. Yim ; J. Kim
出版情報: Design for manufacturability through design-process integration : 28 February-2 March 2007, San Jose, California, USA.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6521