1.

国際会議録
国際会議録
1. Electrical Hysteresis Behavior of Low Temperature Polycrystalline Silicon Thin Film Transistors
D. Nam ; H. Lee ; S. Jung ; T. Ahn ; C. Kim
出版情報: Thin Film Transistor Technology 8.  pp.57-62,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 3(8)
2.

国際会議録
国際会議録
2. Effect of Heat-treatment on Reliability of a-Si:H TFTs for Integrated Gate Driver Circuits
D. Nam ; S. Jeong ; Y. Lee ; S. Jo ; D. Kim
出版情報: Thin Film Transistors 9.  pp.211-215,  2008.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 16(9)
3.

国際会議録
国際会議録
3. New PEC optimization for the mask fabrication of sub-50nm memory device
S. Lee ; D. Ryu ; J. Park ; D. Nam ; H. Kim ; B. Kim ; S. Woo ; H. Cho
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6607
4.

国際会議録
国際会議録
4. Image placement error of photomask due to pattern loading effect: analysis and correction technique for sub-45 nm node
J. Choi ; S. H. Lee ; D. Nam ; B. G. Kim ; S. -G. Woo
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XV.  2  pp.70281X-1-70281X-13,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7028
5.

国際会議録
国際会議録
5. Improvement of mask CD uniformity for below 45-nm node technology
H. Lee ; S. Bae ; J. Park ; D. Nam ; B. Kim
出版情報: Photomask technology 2007.  2  pp.67302Z-1-67302Z-7,  2007.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6730
6.

国際会議録
国際会議録
6. On a new approach to reduction of data for ANFIS application to unmanned robotic vehicles
H. Singh ; A. Mustapha ; S. Kamthan ; A. M. Dixit ; D. Nam
出版情報: Unmanned/unattended sensors and sensor networks V : 16-18 September 2008, Cardiff, Wales, United Kingdom.  pp.711213-1-711213-10,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7112