1.

国際会議録
国際会議録
1. Etching Sub-0.25 um Micron Dual Damascene Structures by High Density Plasmas
Chaudhary, N. ; Cowley, A. ; Dobuzinsky, D.
出版情報: Plasma etching processes for sub-quarter micron devices : proceedings of the international symposium.  pp.303-307,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-30
2.

国際会議録
国際会議録
2. Software design for distributed sensing and computing tasks
Cowley, A. ; Hsu, H. -C. ; Taylor, C. J.
出版情報: Mobile robots XVII : 26-28 October, 2004, Philadelphia, Pennsylvania, USA.  pp.135-144,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5609