1.

国際会議録
国際会議録
1. Lateral and Vertical Phase Separation Control of Thin-film Structures for Photovoltaics
Arias, A.C. ; MacKenzie, J.D. ; Corcoran, N. ; Friend, R.H.
出版情報: Electronic, optical and optoelectronic polymers and oligomers : symposium held April 17-20, 2001, San Francisco, California, U.S.A.  2002.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 665
2.

国際会議録
国際会議録
2. A single-exposure approach for petterning 45 nm flash/DRAM contacthole mask [6283-117]
Chen, T. ; Van Den Broeke, D. ; Tejnil, E. ; Hsu, S. ; Park, S. ; Berger, G. ; Coskun, T. ; De Vocht, J. ; Corcoran, N. ; Chen, F. J. ; van der Heijden, E. ; Finders, J. ; Engelen, A. ; Socha, R.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.62831A-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283
3.

国際会議録
国際会議録
3. Implementation of random contact hole design with CPL mask by using IML technology [5992-108]
Hsu, M. ; Van Den Broeke, D. ; Hsu, S. ; Chen, J. F. ; Shi, X. ; Corcoran, N. ; Yu, L.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.599237-599237,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
4.

国際会議録
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4. Near-0.3 k1 full pitch range contact hole patterning using chromeless phase lithography (CPL)
Van Den Broeke, D.J. ; Socha, R. ; Hsu, S.D. ; Chen, J.F. ; Laidig, T.L. ; Corcoran, N. ; Hollerbach, U. ; Wampler, K.E. ; Shi, X.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.297-308,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256
5.

国際会議録
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5. Contact hole reticle optimization by using interference mapping lithography (IML)
Socha, R.J. ; Van Den Broeke, D.J. ; Hsu, S.D. ; Chen, J.F. ; Laidig, T.L. ; Corcoran, N. ; Hollerbach, U. ; Wampler, K.E. ; Shi, X. ; Conley, W.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.222-240,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377