1.

国際会議録
国際会議録
1. Double dipole lithography for 65-nm node and beyond: defect sensitivity characterization and reticle inspection
Hsu, S. ; Chu, T. -B. ; Van Den Broeke, D. ; Chen, J. F. ; Hsu, M. ; Corcoran, N. P. ; Volk, W. ; Ruch, W. E. ; Sier, J. -P. ; Hess, C. E. ; Lin, B. ; Yu, C. C. ; Huang, G.
出版情報: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.711-722,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5567
2.

国際会議録
国際会議録
2. Contact and via hole mask design optimization for 65-nm technology node
Van Den Broeke, D. ; Shi, X. ; Socha, R. ; Laidig, T. ; Hollerbach, U. ; Wampler, K. E. ; Hsu, S. ; Chen, J. F. ; Corcoran, N. P. ; Dusa, M. V. ; Park, J. C.
出版情報: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.680-690,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5567