1.

国際会議録
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1. Role of Silicon and Boron Interstitial Clusters in Transient Enhanced Diffusion
Cowern, N.E.B. ; Mannino, G. ; Roozeboom, F. ; van Berkum, J.G.M ; Colombeau, B. ; Claverie, A.
出版情報: Rapid thermal and other short-time processing technologies : proceedings of the international symposium.  pp.61-72,  2000.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2000-9
2.

国際会議録
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2. 10 Relation between thermal evolution of interstitial defects and Transient Enhanced Diffusion in silicon
Claverie, A. ; Cristiano, F. ; Colombeau, B. ; Hebras, X. ; Calvo, P. ; Cherkoshin, N. ; Larnrani, Y. ; Scheid, E. ; de Mauduit, B. ; Lampin, E.
出版情報: Advanced short-time thermal processing for Si-based CMOS devices : proceedings of the international symposium.  pp.73-82,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-14
3.

国際会議録
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3. Experimental study on the mechanism of carbon diffusion in silicon
Cowern, N.E.B. ; Colombeau, B. ; Roozeboom, F. ; Hopstaken, M. ; Snijders, H. ; Meunier-Beillard, P. ; Lerch, W.
出版情報: Silicon front-end junction formation technologies : symposium held April 2-4, 2002, San Francisco, California, U.S.A..  pp.255-262,  2002.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 717
4.

国際会議録
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4. Annealing Behavior Of Locally Confined Dislocation Loops Under Inert And Oxidizing Ambient
Tsamis, C. ; Skarlatos, D. ; Raptis, I. ; Tsoukalas, D. ; Calvo, P. ; Colombeau, B. ; Cristiano, F. ; Claverie, A.
出版情報: Silicon front-end junction formation technologies : symposium held April 2-4, 2002, San Francisco, California, U.S.A..  pp.243-248,  2002.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 717
5.

国際会議録
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5. Current Understanding and Modeling of B Diffusion and Activation Anomalies in Preamorphized Ultra-Shallow Junctions
Colombeau, B. ; Smith, A.J. ; Cowern, N.E.B. ; Pawlak, B.J. ; Cristiano, F. ; Duffy, R. ; Claverie, A. ; Ortiz, C.J. ; Pichler, P. ; Lampin, E. ; Zechner, C.
出版情報: Silicon front-end junction formation : physics and technology : symposium held April 13-15, 2004, San Francisco, California, U.S.A..  pp.91-102,  2004.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 810
6.

国際会議録
国際会議録
6. Doping and Mobility Profiles in Defect-Engineered Ultra-Shallow Junctions : Bulk and SOI
Smith, A.J. ; Colombeau, B. ; Gwilliam, R. ; Collart, E. ; Cowern, N.E.B. ; Sealy, B.J.
出版情報: Silicon front-end junction formation : physics and technology : symposium held April 13-15, 2004, San Francisco, California, U.S.A..  pp.109-114,  2004.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 810
7.

国際会議録
国際会議録
7. Atomistic Simulations of Extrinsic Defects Evolution and Transient Enhanced Diffusion in Silicon
Claverie, A. ; Colombeau, B. ; Cristiano, F. ; Altibelli, A. ; Bonafos, C.
出版情報: Si front-end processing -- physics and technology of dopant-defect interactions III : symposium held April 17-19, 2001, San Francisco, California, U.S.A..  2001.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 669
8.

国際会議録
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8. Low Temperature B Activation in SOI Using Optimized Vacancy Engineering Implants
Smith, A.J. ; Colombeau, B. ; Bennett, N. ; Gwilliam, R. ; Cowern, N. ; Sealy, B.
出版情報: Semiconductor defect engineering - materials, synthetic structures and devices : symposium held March 28-April 1, 2005, San Francisco, California, U.S.A..  pp.321-326,  2005.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 864
9.

国際会議録
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9. 5 Effect of Amorphization on Activation and Deactivation of Boron in Source/Drain, Channel and Poly Gate
Pawlak, B.J. ; Duffy, R. ; Janssens, T. ; Vandenorst, W. ; Seven, S. ; Richard, O. ; Benedetti, A. ; Eyben, P. ; Colombeau, B. ; Cowern, N.E.B. ; Camilla-Castillo, R.A. ; Jones, K.S. ; Aboy, M.
出版情報: Advanced gate stack, source/drain and channel engineering for Si-based CMOS, new materials, processes, and equipment : proceedings of the international symposium.  pp.43-49,  2005.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2005-05
10.

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10. Atomistic Simulations of the Ostwald Ripening of Si Nanoparticles Ion Beam Synthesized in Sio2
Bonafos, C. ; Carrada, M. ; Colombeau, B. ; Altibelli, A. ; Assayag, G. Ben ; Garrido, B. ; Lopez M. ; Perez-Rodriguez, A. ; Morante, J.R. ; Claverie, A.
出版情報: Ion beam synthesis and processing of advanced materials : symposium held November 27-29, 2000, Boston, Massachusetts, U.S.A..  2001.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 647