1.

国際会議録
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1. Novel x-ray mask structure with low out-of-plane distortion
Jeon,Y.J. ; Choi,S.-S. ; Kim,I.Y. ; Chung,H.B. ; Kim,B.W.
出版情報: Emerging lithographic technologies II : 23-25 February 1998, Santa Clara, California.  pp.511-517,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3331
2.

国際会議録
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2. Novel antireflective structure for metal layer patterning
Choi,S.-S. ; Cha,H.S. ; Kim,J.-S. ; Park,J.M. ; Kim,D.H. ; Lee,K.H. ; Ahn,J. ; Chung,H.B. ; Kim,B.W.
出版情報: Advances in resist technology and processing XV : 23-25 February 1998, Santa Clara, California.  Part 1  pp.336-346,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3333
3.

国際会議録
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3. Chromatic aberration-free TTL alignment system for 193-nm step-and-scan exposure system by using phase conjugate waves
Kwon,J.H. ; Sohn,Y.J. ; Hwang,H.C. ; Kim,D.H. ; Chung,H.B.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.971-977,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
4.

国際会議録
国際会議録
4. Design of illumination aperture for ArF exposure system with wide exposing latitude
Choi,S.-S. ; Cha,H.S. ; Kim,J.-S. ; Lee,K.H. ; Kim,D.H. ; Chung,H.B. ; Kim,D.Y.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part2  pp.792-799,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
5.

国際会議録
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5. Alignment system for ArF excimer-laser-based step-and-scan system
Kim,D.H. ; Kim,J.S. ; Sohn,Y.J. ; Kwon,J.H. ; Lee,K.H. ; Choi,S.-S. ; Chung,H.B. ; Yoo,H.J. ; Kim,B.W.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.958-970,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
6.

国際会議録
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6. Design of illumination system for ArF excimer laser step-and-scanner
Lee,K.H. ; Kim,D.H. ; Kim,J.S. ; Choi,S.-S. ; Chung,H.B. ; Yoo,H.J. ; Kim,B.W.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.997-1004,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
7.

国際会議録
国際会議録
7. New technology for enhancing depth of focus using birefringent material
Kim,D.H. ; Chung,H.B. ; Cho,K.-1. ; Kim,D.Y.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part2  pp.704-714,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
8.

国際会議録
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8. Optimization of electron-beam lithography for super-low-noise HEMTs
Choi,S.-S. ; Lee,J.-H. ; Yun,H.S. ; Chung,H.B. ; Lee,S.Y. ; Yoo,H.J.
出版情報: Electron-beam, X-ray, EUV, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing VI : 11-13 March 1996, Santa Clara, California.  pp.372-382,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2723
9.

国際会議録
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9. Damage characterization of SiN x-ray mask membrane caused by electron-beam exposure
Choi,S.-S. ; Jeon,Y.J. ; Kim,J.-S. ; Chung,H.B. ; Lee,S.Y. ; Lee,J.H. ; Yoo,H.J.
出版情報: Electron-beam, X-ray, EUV, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing VI : 11-13 March 1996, Santa Clara, California.  pp.321-331,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2723
10.

国際会議録
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10. Catadioptric Systems for Sub-Quarter Micron Lithography,
Lee,K.H. ; Chung,H.B. ; Kim,D.H. ; Yoo,H.J.
出版情報: Optics for science and new technology : 17th Congress of the International Commission for Optics, August 19-23, 1996, Hotel Riviera(Yusong), Taejon Korea.  Part1  pp.11-12,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2778