1.

国際会議録
国際会議録
1. Remarkable SHG enhancement by helical distributed feedback cavity spontaneously formed in ferroelectric liquid crystals
Hoshi,H. ; Chung,D.-H. ; Ishikawa,K. ; Takezoe,H.
出版情報: Liquid crystal materials, devices, and flat panel displays : 27-28 January 2000, San Jose, California.  pp.58-67,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3955
2.

国際会議録
国際会議録
2. Doubly exposed patterning using mutually one-pitch step-shifted alternating phase-shift masks
Lee,S.-W. ; Chung,D.-H. ; Shin,I.-G. ; Kim,Y.-H. ; Choi,S.-W. ; Han,W.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.762-769,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
3.

国際会議録
国際会議録
3. Prediction of MEEF using a simple model and MEEF enhancement parameters
Chung,D.-H. ; Yang,S.-H. ; Kim,H.-D. ; Shin,I.-G. ; Kim,Y.-H. ; Choi,S.-W. ; Han,W.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.94-100,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409
4.

国際会議録
国際会議録
4. Optical performances under the conditions of various geometrical structures and phase defects in phase edge PSM
Jeong,T.M. ; Shin,I.-K. ; Chung,D.-H. ; Kim,S.-H. ; Kim,H. ; Choi,S.-W. ; Han,W.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.776-785,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562