1.

国際会議録
国際会議録
1. Evaluation of ArF CLM in the sub-100-nm DRAM cell
Lee, J.-H. ; Chung, D.-H. ; Kim, H.-C. ; Nam, D.-S. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.251-260,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
2.

国際会議録
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2. Phase defect printability analysis for chromeless phase lithography technology
Huh, S. ; Park, J.H. ; Chung, D.-H. ; Kim, C.-H. ; Shin, I.-K. ; Choi, S.-W. ; Sohn, J.-M.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.787-795,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
3.

国際会議録
国際会議録
3. Extension of Cr-less PSM to sub 90-nm-node DRAM and logic device
Lee, J.-H. ; Kim, H.-D. ; Chung, D.-H. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.727-735,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
4.

国際会議録
国際会議録
4. Validation of ArF chromeless PSM in the sub-100-nm node DRAM cell
Lee, J.-H. ; Chung, D.-H. ; Cha, D.-C. ; Kim, H.-S. ; Park, J.-S. ; Nam, D.-G. ; Woo, S.-K. ; Cho, H.-S. ; Han, W.-S.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.1253-1262,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
5.

国際会議録
国際会議録
5. Application of Cr-less mask technology for sub-100-nm gate with single exposure
Kim, S.-H. ; Chung, D.-H. ; Park, J.S.. ; Shin, I.K. ; Choi, S.W. ; Sohn, J.-M. ; Lee, J.-H. ; Shin, H.-S. ; Chen, J.F. ; Van Den Broeke, D.J.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.568-578,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
6.

国際会議録
国際会議録
6. New resolution enhancement technology for manufacturing sub-100-nm technology
Chung, D.-H. ; Park, J.-Y. ; Lee, M.-K. ; Shin, I.-K. ; Choi, S.-W. ; Yoon, H.-S. ; Sohn, J.-M. ; Chen, J.F. ; Van Den Broeke, D.J.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1492-1499,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
7.

国際会議録
国際会議録
7. Development of mask-making process for CLM manufacturing technology
Park, J.-H. ; Chung, D.-H. ; Lee, M.-K. ; Shin, I.-K. ; Choi, S.-W. ; Yoon, H.-S. ; Sohn, J.-M. ; Chen, J.F. ; Van Den Broeke, D.J.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.727-736,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754