1.

国際会議録
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1. The study on causes and control methods of haze contamination
Han, S.-J. ; Kim, B.-H. ; Park, J.-H. ; Kim, Y.-H. ; Choi, S.-W. ; Han, W.-S
出版情報: Advanced microlithography technologies : 8-10 November, 2004, Beijing, China.  pp.109-113,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5645
2.

国際会議録
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2. Development of Large Thermal Vacuum Chamber (Φ8m Χ L10m)
Lee, S. H. ; Seo, H.-J. ; Cho, H. ; Moon, G.-W. ; Choi, S.-W.
出版情報: Proceedings of the 6th International Symposium on Environmental Testing for Space Programmes : 12-14 June 2007, Noordwijk, The Netherlands.  2007.  Noordwijk, The Netherlands.  ESA Communication Production Office
シリーズ名: ESA SP
シリーズ巻号: 639
3.

国際会議録
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3. The cerebral imaging using vessel-around method in the perfusion CT of the human brain
Ahn, C.-I. ; Choi, S.-W. ; Park, S.-C. ; Shin, Y.-G. ; Kim, J.-H. ; Chong, G.-B.
出版情報: Medical Imaging 2005: Physiology, Function, and Structure from Medical Images.  pp.670-677,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5746
4.

国際会議録
国際会議録
4. Qualitative analysis of haze defects [6349-103]
Choi, J. ; Koh, S. ; Ji, S. ; Cha, B.-C. ; Choi, S.-W. ; Han, W.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63492S-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
5.

国際会議録
国際会議録
5. Implementing chemically amplified resist to 10kV raster e-beam process in photomask manufacturing [5853-19]
Kim, S.-K. ; Kim, B.-G. ; Moon, S.-Y. ; Choi, S.-W. ; Han, W.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.425-431,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
6.

国際会議録
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6. Simulation of resist heating effect with e-beam lithography using distributed processing (DP) [5853-18]
Ki, W.-T. ; Ahn, B.-S. ; Park, J.-S. ; Choi, S.-W. ; Ma, S.-B. ; Han, W.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.416-424,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
7.

国際会議録
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7. Monitoring system of CD error analysis for the 90-nm node mask manufacturing [5853-11]
Yu, S.-Y. ; Kim, S.-H. ; Cha, B.-C. ; Kim, Y.-H. ; Choi, S.-W. ; Yoon, H.-S. ; Han, W.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.83-89,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
8.

国際会議録
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8. The application of phase grating to CLM technology for the sub-65nm node optical lithography [5853-55]
Yoon, G.-S. ; Kim, S.-H. ; Park, J.-S. ; Choi, S.-Y. ; Jean, C.-U. ; Shin, I.-K. ; Choi, S.-W. ; Han, W.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.703-713,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
9.

国際会議録
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9. Evaluations of optical performance for micro-trench on quartz etch in ArF lithography [5853-67]
Ahn, W.-S. ; Kwon, H.-J. ; Moon, S.-Y. ; Choi, S.-W. ; Han, W.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.818-826,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
10.

国際会議録
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10. Load balancing using DP management server for commercial MDP software [6349-146]
Kim, J.-W. ; Ki, W.-T. ; Jang, S.-H. ; Choi, J.-H. ; Choi, S.-W. ; Han, W.-S.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63493X-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349