1.

国際会議録
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1. Implementation of the ArF resists based on VEMA for sub-100-nm device
Kim, H.-W. ; Lee, S. ; Choi, S.-J. ; Lee, S.-H. ; Kang, Y. ; Woo, S.-G. ; Nam, D.S. ; Chae, Y.-S. ; Kim, J.S. ; Moon, J.-T. ; Kavanagh, R.J. ; Barclay, G.G.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XIX.  Part One  pp.533-540,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4690
2.

国際会議録
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2. Preserving EAPSM phase and transmission in the clean process
Choi, S.-J. ; Yoon, S.-Y. ; Kim, Y.-D. ; Lee, H.-W. ; Kim, D.-H. ; Lee, S.-W. ; Lee, D.-H. ; Kim, J.-M. ; Choi, S.-S. ; Jeong, S.H.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.713-724,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
3.

国際会議録
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3. Bus-coupled microresonator lasers (Invited Paper)
Choi, S.-J. ; Peng, Z. ; Yang, Q. ; Choi, S.J. ; Dapkus, P.D.
出版情報: Novel In-Plane Semiconductor Lasers IV.  pp.285-294,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5738
4.

国際会議録
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4. Macrocycle monomer having ethyleneoxy unit to buffer acid diffusion (new base for photoresist)
Lee, G. ; Kong, K.-K. ; Jung, J.-C. ; Shin, K.-S. ; Kang, J.-H. ; Kim, S.D. ; Choi, Y.-J. ; Choi, S.-J. ; Kim, D.-B. ; Kim, J.-H.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XIX.  Part One  pp.136-140,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4690
5.

国際会議録
国際会議録
5. Application of DoseMapper for 65-nm gate CD control: strategies and results [6349-16]
Jeewakhan, N. ; Shamma, N. ; Choi, S.-J. ; Alvarez, R. ; Son, D. H. ; Nakamura, M. ; Pici, V. ; Schreiber, J. ; Tzeng, W. ; Ang, S. ; Park, D.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63490G-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
6.

国際会議録
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6. Etching selectivity and surface profile of attenuated phase-shifting mask using CF4/O2/He inductively coupled plasma (ICP)
Yoon, S.-Y. ; Choi, S.-J. ; Kim, Y.-D. ; Lee, D.-H. ; Cha, H.-S. ; Kim, J.-M. ; Choi, S.-S. ; Jeong, S.H.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.332-340,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754
7.

国際会議録
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7. Highly anisotropic etching of phase-shift masks using ICP of CF4-SF6-CHF3 gas mixtures
Choi, S.-J. ; Cha, H.-S. ; Yoon, S.-Y. ; Kim, Y.-D. ; Lee, D.-H. ; Kim, J.-M. ; Kim, J.-S. ; Min, D.-S. ; Jang, P.-J. ; Chang, B.-S. ; Kwon, H.-J. ; Choi, B.-Y. ; Choi, S.-S. ; Jeong, S.H.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.303-311,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754
8.

国際会議録
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8. Fluorocarbon-based single-layer resist for 157-nm lithography
Song, K.Y. ; Yoon, K.-S. ; Choi, S.-J. ; Woo, S.-G. ; Han, W.-S. ; Lee, J.-J. ; Lee, S.-K. ; Noh, C.-H. ; Honda, K.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XIX.  Part One  pp.504-511,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4690
9.

国際会議録
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9. Comparative evaluation of mask cleaning performance
Jeong, W.-G. ; Park, D.- ; Park, E.-S. ; Cho, Y.-W. ; Choi, S.-J. ; Kwon, H.-J. ; Kim, J.-M. ; Choi, S.-S.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.510-517,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256
10.

国際会議録
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10. What an antishrinkage coating method can surmount among stumbling block of ArF resists
Kim, H.-D. ; Lee, S.-H. ; Choi, S.-J. ; Lee, J.-H. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S. ; Moon, J.-T.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XX.  2  pp.827-837,  2003.  Bellingham, CA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5039