1.

国際会議録
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1. Impact of mask CD error on wafer CD error at low-k1 photolithography
Kim, B. -G. ; Choi, S. -W. ; Choi, J. -H. ; Chun, C. -U. ; Yoon, H. -S. ; Sohn, J. -M.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology VI.  pp.572-578,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3748
2.

国際会議録
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2. Quantitative analysis of develop loading effect and its application
Han, H. -S. ; Moon, S. -G. ; Yoon, J. -B. ; Kim, B. -G. ; Moon, S. -Y. ; Choi, S. -W. ; Han, W. -S.
出版情報: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.213-219,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5567
3.

国際会議録
国際会議録
3. A study of Cr to Mosi in situ dry etching process to reduce plasma induced defect [5992-25]
Jang, I. -Y. ; Park, Y. -J. ; Kwon, H. -J. ; Moon, S. -Y. ; Choi, S. -W. ; Han, W. S.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59920O-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
4.

国際会議録
国際会議録
4. Reduction of MDP complexity through the application of OASIS based data flow [5992-39]
Jang, S. -H. ; Choi, J. -H. ; Park, J. -S, ; Choi, S. -W.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.599212-599212,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
5.

国際会議録
国際会議録
5. Optimized distributed computing environment for mask data preparation [5992-41]
Ahn, B. -S. ; Bang, J. -M. ; Ji, M. -K. ; Kang, S. ; Jang, S. -H. ; Choi, Y. -H. ; Ki, W. -T. ; Choi, S. -W. ; Han, W. -S.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.599214-599214,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
6.

国際会議録
国際会議録
6. Evaluation of the attenuated PSM performance as the shifter transmittance and illumination systems
Kim, Y. -H. ; Park, J. -H. ; Lee, K. -H. ; Choi, S. -W. ; Yoon, H. -S. ; Sohn, J. -M.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology VI.  pp.332-339,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3748
7.

国際会議録
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7. How large MEEF is acceptable for the low-k1 lithography- [5992-97]
Nam, D. ; Lee, D. -G. ; Kim, B. ; Moon, S. -Y. ; Choi, S. -W. ; Han, W. -S.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59922W-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
8.

国際会議録
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8. Analysis of various blur effects on mask CD distortion [5992-166]
Han, H. -S. ; Lee, S. -H. ; Kim, B. -G. ; Moon, S> -Y. ; Choi, S. -W. ; Han, W. -S.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59924V-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992