1.

国際会議録
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1. Challenge to 0.13-ｦﾌm device patterning using KrF
Kim,I.-S. ; Lee,J.-H. ; Cha,D.-H. ; Park,J.-S. ; Cho,H.-K. ; Moon,J.-T.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part2  pp.872-881,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
2.

国際会議録
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2. Evaluation of phase-edge phase-shifting mask for sub-0.18-ｦﾌm gate patterns in logic devices
Cha,D.-H. ; Kye,J.-W. ; Seong,N.-G. ; Kang,H.-Y. ; Cho,H.-K. ; Moon,J.-T.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.46-54,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
3.

国際会議録
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3. Measurement of pitch dependency of overlay errors under OAI by using an electric CD measurement technique
Seong,N. ; Kim,H. ; Cho,H.-K. ; Moon,I.-T. ; Lee,S.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part2  pp.1170-1174,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
4.

国際会議録
国際会議録
4. Feasibility of very low k1(=0.31) KrF lithography
Kim,I.-S. ; Kim,B.-S. ; Lee,J.-H. ; Cho,H.-K. ; Moon,J.-T.
出版情報: Challenges in process integration and device technology : 18-19 September 2000, Santa Clara, USA.  pp.17-24,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4181
5.

国際会議録
国際会議録
5. Detectability and printability of programmed defect reticle for 256-Mb dram
Park,J.H. ; Cho,H.-K. ; Kim,Y.-H. ; Lee,K.-H. ; Yoon,H.-S.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology III.  pp.300-311,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2793
6.

国際会議録
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6. One step forward to maturity of AF (assistant feature)-OPC in 100-nm level DRAM application
Kang,H.-J. ; Kim,B.-S. ; Park,J.-S. ; Kim,I.-S. ; Yeo,G.-S. ; Lee,J.-H. ; Cho,H.-K. ; Moon,J.-T.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.1096-1103,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562
7.

国際会議録
国際会議録
7. Modification of development parameters of 193-nm chemically amplified resist with pattern density
Seo,E.-J. ; Sohn,Y.-S. ; Bak,H.-J. ; Oh,H.-K. ; Woo,S.-G. ; Seong,N. ; Cho,H.-K.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XVIII.  4345  pp.963-972,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4345
8.

国際会議録
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8. Current status of mask CD uniformity as related to e-beam system
Lim,S.-C. ; Kim,B.-G. ; Choi,S.-W. ; Lee,K.-H. ; Cho,H.-J. ; Yu,Y.-H. ; Cho,H.-K. ; Sohn,J.-M.
出版情報: 17th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management.  pp.301-311,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3236