1.

国際会議録
国際会議録
1. (4.13) 8:01 - 8:04 PM - Sidewall Protection by Nitrogen in Anisotropic Etching of P-doped Poly- Si1_xGex
Cho, H.-S. ; Takehiro, S. ; Sakuraba, M. ; Murota, J.(Tohoku University)
出版情報: SiGe: materials, processing, and devices : proceedings of the First international symposium.  pp.243-250,  2004.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2004-07
2.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
2. Design of IPMSM for the Electrical Compressor in EV.
Hwang, K.-Y. ; Park, G.-B. ; Cho, H.-S.
出版情報: 16th Asia Pacific Automotive Engineering Conference : SAE technical paper.  2011.  Warrendale, Penn..  Society of Automotive Engineers
シリーズ名: Society of Automotive Engineers technical paper series
シリーズ巻号: 2011
3.

国際会議録
国際会議録
3. Validation of ArF chromeless PSM in the sub-100-nm node DRAM cell
Lee, J.-H. ; Chung, D.-H. ; Cha, D.-C. ; Kim, H.-S. ; Park, J.-S. ; Nam, D.-G. ; Woo, S.-K. ; Cho, H.-S. ; Han, W.-S.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.1253-1262,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889