1.

国際会議録
国際会議録
1. Enhancing DRAM printing process window by using inverse lithography technology (ILT) [6154-142]
Chu, C. W. ; Tsao,B ; Chiou, K. ; Lee, S. ; Huang, J. ; Liu, Y ; Lin,T ; Moore A ; Pang,L
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.61543O-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
2.

国際会議録
国際会議録
2. Pattern fidelity improvement by considering the underlying patterns at defocus
Chiou, K. ; Huang, J. ; Lee, S. ; Lee, C.Y. ; Tang, N. ; Peng, J.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.452-459,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754