1.

国際会議録
国際会議録
1. WET OXIDATION OF EPITAXIAL Ge36Si64 ON (100)Si
Liu, W.S. ; Bai, G. ; Nicolet, M.-A. ; Chern, C.H. ; Albert, V. ; Wang, K.L.
出版情報: Silicon molecular beam epitaxy : symposium held April 29-May 3, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.259-264,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 220
2.

国際会議録
国際会議録
2. CHARACTERIZATION OF Si1-xGex/Si HETEROSTRUCTURES USING OPTICALLY-DETECTED MAGNETIC RESONANCE
Kennedy, T.A. ; Glaser, E.R. ; Trombetta, J.M. ; Wang, K.L. ; Chern, C.H. ; Albert-Engels, V.
出版情報: Silicon molecular beam epitaxy : symposium held April 29-May 3, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.271-276,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 220
3.

国際会議録
国際会議録
3. MEASUREMENT OF VALENCE BAND OFFSET IN STRAINED GexSi1-x/Si HETEROJUNCTIONS
Khorram, S. ; Chern, C.H. ; Wang, K.L.
出版情報: Silicon molecular beam epitaxy : symposium held April 29-May 3, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.181-186,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 220
4.

国際会議録
国際会議録
4. VERY THICK COHERENTLY STRAINED GexSi1-x LAYERS GROWN IN A NARROW TEMPERATURE WINDOW
Chern, C.H. ; Wang, K.L. ; Bai, G. ; Nicolet, M.-A.
出版情報: Silicon molecular beam epitaxy : symposium held April 29-May 3, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.175-180,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 220