1.

国際会議録
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1. ELECTRICAL AND MISCROSTRUCTURAL CHARACTERISTICS OF Ti CONTACTS ON (001) Si
Liauh, H. R. ; Chen, M. C. ; Chen, J. F. ; Chen, L. J.
出版情報: Advanced metallization and processing for semiconductor devices and circuits--II : symposium held April 27-May 1, 1992, San Francisco, California, U.S.A..  pp.635-640,  1992.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 260
2.

国際会議録
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2. I-VM C-V AND HALL EFFECT STUDIES OF INDIUM-DOPED LPE GaAs
Chen, J. F. ; Xie, K. ; Wie, C. R.
出版情報: Advances in materials, processing, and devices in III-V compound semiconductors.  pp.209-214,  1989.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 144
3.

国際会議録
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3. ROCKING-CURVE PEAK SHIFT IN THIN HETEROJUCTION SINGLE LAYERS
Wie, C. R. ; Choi, Y. W. ; Kim,. H. M ; Chen, J. F. ; Vreeland Jr., T. ; Tsai, C.-J
出版情報: III-V heterostructures for electronic/photonic devices : symposium held April 24-27, 1989, San Diego, California, U.S.A..  pp.487-492,  1989.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 145
4.

国際会議録
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4. X-RAY PHOTOLUMINESCENCE AND ETCHING STUDIES OF INDIUM-DPIED LPE GaAs LAYERS
Chen, J. F. ; Wie. C. R ; Junga, F. A.
出版情報: Advances in materials, processing, and devices in III-V compound semiconductors.  pp.9-14,  1989.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 144
5.

国際会議録
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5. SILICIDE FORMATION BY RAPID THERMAL PROCESSING
Chen, L. J. ; Lur, W. ; Chen, J. F. ; Lee, T. L. ; Liang, J. M.
出版情報: Rapid thermal and integrated processing III : symposium held April 4-7, 1994, San Francisco, California, U.S.A..  pp.99-,  1994.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 342
6.

国際会議録
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6. SOLID STATE AMORPHIZATION IN SILICIDE-FORMING SYSTEMS
Chen, L. J. ; Hsieh, W. Y. ; Lin, J. H. ; Lee, T. L. ; Chen, J. F. ; Liang, J. M. ; Wang, M. H.
出版情報: Silicides, germanides, and their interfaces : Symposium held November 29-December 2, 1993, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.343-,  1994.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 320
7.

国際会議録
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7. Model-based scattering bars implementation for 65nm and 45nm nodes using IML technology [5853-50]
Hsu, M. ; Van Den Broeke, D. ; Laidig, T. ; Wampler, K. E. ; Hollerbach, U. ; Socha, R. ; Chen, J. F. ; Hsu, S. ; Shi, X.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.659-671,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
8.

国際会議録
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8. Double exposure technique for 45nm node and beyond [5992-63]
Hsu, S. ; Park, J. ; Van Den Broeke, D. ; Chen, J. F.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59921Q-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
9.

国際会議録
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9. Halftone biasing OPC technology: an approach for achieving fine bias control on raster-scan systems
Nakagawa, K. H. ; Chen, J. F. ; Socha, R. J. ; Laidig, T. L. ; Wampler, K. E. ; Van Den Broeke, D. ; Dusa, M. V. ; Caldwell, R. F.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology VI.  pp.315-323,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3748
10.

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10. Implementation of random contact hole design with CPL mask by using IML technology [5992-108]
Hsu, M. ; Van Den Broeke, D. ; Hsu, S. ; Chen, J. F. ; Shi, X. ; Corcoran, N. ; Yu, L.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.599237-599237,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992