1.

国際会議録
国際会議録
1. Characteristics of selective MoSiON etching in a chlorine plasma
Chang, B.-S. ; Min, D.-S. ; Kwon, H.-J. ; Choi, B.-Y.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.702-712,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
2.

国際会議録
国際会議録
2. Higher anisotropy and improved surface conditions for 90-nm-node MoSiON ICP dry etch
Min, D.-S. ; Chang, B.-S. ; Kwon, H.-J. ; Choi, B.-Y.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.694-701,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
3.

国際会議録
国際会議録
3. Plasma etch of Cr masks utilizing TCP source for a next-generation plasma source
Kwon, H.-J. ; Min, D.-S. ; Jang, P.-J. ; Chang, B.-S. ; Choi, B.-Y. ; Jeong, S.-H.
出版情報: 18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.  pp.60-65,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4764
4.

国際会議録
国際会議録
4. Highly anisotropic etching of phase-shift masks using ICP of CF4-SF6-CHF3 gas mixtures
Choi, S.-J. ; Cha, H.-S. ; Yoon, S.-Y. ; Kim, Y.-D. ; Lee, D.-H. ; Kim, J.-M. ; Kim, J.-S. ; Min, D.-S. ; Jang, P.-J. ; Chang, B.-S. ; Kwon, H.-J. ; Choi, B.-Y. ; Choi, S.-S. ; Jeong, S.H.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.303-311,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754