1.

国際会議録
国際会議録
1. Generation of Hole Traps in Silicon Dioxide Under Fowler-Nordheim Stress
Brozek, T. ; Chan, Y. D. ; Viswanathan, C. R.
出版情報: Materials reliability in microelectronics VI : symposium held April 8-12, 1996, San Francisco, California, U.S.A..  pp.317-,  1996.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 428
2.

国際会議録
国際会議録
2. OXIDE DEGRADATION RESULTING FROM PHOTORESIST ASHING
Mikulan, P. I. ; Koo, T. T. ; Awadelkarim, O. O. ; Fonash, S. J. ; Ta, T. ; Chan, Y. D.
出版情報: Materials reliability in microelectronics III : symposium held April 12-15, 1993, San Francisco, California, U.S.A..  pp.61-,  1993.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 309
3.

国際会議録
国際会議録
3. Advanced high-resolution mask processes using optical proximity correction (Invited Paper)
Chan, Y. D.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology VI.  pp.11-18,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3748