1.

国際会議録
国際会議録
1. Defect inspection of EUVmask blank using confocal microscopy: simulation and experiment [6151-49]
Kim, S. S. ; Park, J. ; Chalykh, R. ; Kang, J. ; Lee, S. ; Woo, S. G. ; Cho, H. K. ; Moon, J. T.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies X.  pp.61511C-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6151
2.

国際会議録
国際会議録
2. Simulation of critical dimension and profile metrology based on scatterometry method [6349-57]
Chalykh, R. ; Pundaleva, I. ; Kim, S. ; Cho, H.-K. ; Moon, J.-T.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63491K-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349