1.

国際会議録
国際会議録
1. Novel antireflective structure for metal layer patterning
Choi,S.-S. ; Cha,H.S. ; Kim,J.-S. ; Park,J.M. ; Kim,D.H. ; Lee,K.H. ; Ahn,J. ; Chung,H.B. ; Kim,B.W.
出版情報: Advances in resist technology and processing XV : 23-25 February 1998, Santa Clara, California.  Part 1  pp.336-346,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3333
2.

国際会議録
国際会議録
2. Design of illumination aperture for ArF exposure system with wide exposing latitude
Choi,S.-S. ; Cha,H.S. ; Kim,J.-S. ; Lee,K.H. ; Kim,D.H. ; Chung,H.B. ; Kim,D.Y.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part2  pp.792-799,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679