1.

国際会議録
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1. Analysis of photomask CD errors depending on development methods
Moon,S.-Y. ; Ki,W.-T. ; Cha,B.-C. ; Choi,S.-W. ; Yoon,H.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: 19th Annual Symposium on Photomask Technology : 15-17 September 1999, Monterey, California.  Part2  pp.573-576,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3873
2.

国際会議録
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2. Dose latitude dependency on resist contrast in e-beam mask lithography
Cha,B.-C. ; Moon,S.-Y. ; Ki,W.-T. ; Yang,S.-H. ; Choi,S.-W. ; Han,W.-S. ; Yoon,H.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VII.  pp.200-209,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4066
3.

国際会議録
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3. Improved process control of photomask fabrication in e-beam lithography
Cha,B.-C. ; Park,J.-H. ; Choi,Y.-H. ; Kim,J.-M. ; Han,W.-S. ; Yoon,H.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: 20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.508-512,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4186
4.

国際会議録
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4. Evaluation of the practical use of GHOST technique for various e-beam resists
Cha,B.-C. ; Kim,J.-M. ; Kim,B.-G. ; Choi,S.-W. ; Yoon,H.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: 18th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management.  pp.55-62,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3546
5.

国際会議録
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5. Evaluation of process capabilities for 50 keV with rectangular-shaped beam using computer simulation
Cha,B.-C. ; Kim,Y.-H. ; Choi,S.-W. ; Yu,Y.-H. ; Sohn,J.-M.
出版情報: 17th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management.  pp.34-41,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3236
6.

国際会議録
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6. Correction method for radial effect caused by spin process
Kim,J.-M. ; Choi,S.-W. ; Cha,B.-C. ; Yoon,H.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: 16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management.  pp.466-472,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2884