1.

国際会議録
国際会議録
1. Electrochemical, Contact Angle, and Spectroscopic Characterization of Metal Films during Copper Damascene Processing
Carpio, R.A. ; Hymes, S. ; Mikkola, R. ; Pavlov, M.
出版情報: Proceedings of the Symposia on Electrochemical Processing in ULSI Fabrication I and Interconnect and Contact Metallization: materials, processes, and reliability.  pp.206-220,  1998.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-6
2.

国際会議録
国際会議録
2. Characterization Of ECR Oxide Films For ILD Applications
Fowler, B.W. ; Carpio, R.A.
出版情報: Proceedings of the third Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films.  pp.492-502,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-16
3.

国際会議録
国際会議録
3. An Investigation of the Effects of Wafer Curvature Changes During Copper Damascene Processing
Carpio, R.A. ; Dorris, S.-T.L. ; Woodring, J. ; Owen, D.M. ; Abisia, D.
出版情報: Electrochemical processes in ULSI and MEMS : proceedings of the international symposium.  pp.235-250,  2005.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2004-17
4.

国際会議録
国際会議録
4. The Measurement of Submicron Epitaxial Layer Thickness and Free Carrier Concentration by Infrared Reflectance Spectroscopy
Fowler, B.W. ; Simmons, D.G. ; Carpio, R.A. ; Liu, S. ; Solomon, P.R. ; Nishikida, K.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Diagnostic Techniques for Semiconductor Materials and Devices.  pp.254-265,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-33
5.

国際会議録
国際会議録
5. Applications of Raman Spectroscopy for SC-i Processing Bath Control
Pelletier, M.J. ; Davis, K.L. ; Carpio, R.A.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Process control, Diagnostics, and Modeling in Semiconductor Manufacturing.  pp.282-293,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-2
6.

国際会議録
国際会議録
6. THE REACTION OF VAPOR HF WITH CHEMICALLY FORMED SILICON OXIDE: PRODUCTION OF STABLE HYDROGEN- TERMINATED SURFACES
Barnett, J.M. ; Grothe, P.A. ; Martin, J.S. ; Carpio, R.A. ; Fowler, B.W. ; Atluri, Vasu ; Herbots, Nicole
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.126-133,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-20