1.

国際会議録
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1. In situ and ex situ study of propylene polymerization with a MgClr2-supported ziegler-natta catalyst
Oleshko, V. ; Crozier, P. ; Cantrell, R. ; Westwood, A.
出版情報: 12th International Congress on Catalysis : proceedings of the 12th ICC, Granada, Spain, July 9-14, 2000.  pp.935-,  2000.  Amsterdam.  Elsevier
シリーズ名: Studies in surface science and catalysis
シリーズ巻号: 130
2.

国際会議録
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2. Evaluation of a new-generation photomask develop system for CAR
Cantrell, R. ; Tschinkl, M. ; Feicke, A. ; Porsche, W. ; Lee, G. ; Kotoda, T. ; Tichy, P. ; Fukai, T. ; Kamei, S. ; Asai, H.
出版情報: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.190-200,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5567
3.

国際会議録
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3. First photomask developer based on state-of-the-art wafer processing technology
Tichy, P. ; Fukai, T. ; Kamei, S. ; Asai, H. ; Kotoda, T. ; Takeshita, K. ; Miyamoto, T. ; Okamoto, Y. ; Funakoshi, H. ; Koga, S. ; Oono, S. ; Cantrell, R. ; Feicke, A. ; Porsche, W. ; Tschinkl, M. ; Lee, G.
出版情報: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.1216-1227,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5567
4.

国際会議録
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4. Comparison of DUV wafer and reticle lithography: What Is the resolution limit?
Spence, C.A. ; Tabery, C.E. ; Cantrell, R. ; Dahl, L.B. ; Buck, P.D. ; Wilkinson, W.L.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.177-186,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
5.

国際会議録
国際会議録
5. Intellectual property analysis of embossed hologram business (Invited Paper) [6136-08]
Hunt, D. ; Reingand, N. ; Cantrell, R.
出版情報: Practical Holography XX: Materials and Applications.  pp.613608-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6136
6.

国際会議録
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6. Second level printing of advanced phase shift masks using DUV laser lithography [5853-93]
Howard, C. ; Park, K.-T. ; Scherer, M. ; Stankovic, S. ; Cantrell, R. ; Herrmann, M.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.1021-1030,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
7.

国際会議録
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7. Application of a wafer development process to mask making [5853-22]
Lee, G. ; Berger, C. ; Burgel, C. ; Feicke, A. ; Cantrell, R. ; Tschinkl, M.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.445-453,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853