1.

国際会議録
国際会議録
1. Electromigration Drift Velocity in Al and Cu Interconnection
Hu, C.-K. ; Lee, K. Y. ; Lee, K. L. ; Cabral, C., Jr. ; Colgari, E. C.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Reliability of Metals in Electronics.  pp.203-214,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-3
2.

国際会議録
国際会議録
2. In Situ Monitoring of Thin Film Reactions During Rapid Thermal Annealing: Nickel Silicide Formation
Lavoje, C. ; Purtell, R. ; Cola, C. ; Detavernier, C. ; Desjardins, P. ; Jordan-Sweet, J. ; Cabral, C., Jr. ; d'Heurle, F.M. ; Harper., J.M.E.
出版情報: Rapid thermal and other short-time processing technologies III : proceedings of the international symposium.  pp.455-468,  2002.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-11
3.

国際会議録
国際会議録
3. 46 Evaluation of CMOS gate metal materials using in situ characterization techniques
Cabral, C., Jr. ; Lavoje, C. ; Ozcan, A.S. ; Amos, R.S. ; Naroyanan, V. ; Gusev, E.P. ; Jordan-Sweet, J.L. ; Harpe, J.M.E.
出版情報: Advanced short-time thermal processing for Si-based CMOS devices : proceedings of the international symposium.  pp.375-384,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-14
4.

国際会議録
国際会議録
4. Phase Formation in Cu(Sn) Alloy Thin Films
Clevenger, L. A. ; Arcot, B. ; Ziegler, W. ; Colgan, E. G. ; Hong, Q. Z. ; d'Heurle, F. M. ; Cabral, C., Jr. ; Gallo, T. A. ; Harper, J. M. E.
出版情報: Advanced metallization for future ULSI : symposium held April 8-11, 1996, San Francisco, California, U.S.A..  pp.133-,  1996.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 427
5.

国際会議録
国際会議録
5. Mechanisms for Microstructure Evolution in Electroplated Copper Thin Films
Harper, J. M. E. ; Cabral, C., Jr. ; Andricacos, P. C. ; Gignac, L. ; Noyan, I. C. ; Rodbell, K. P. ; Hu, C. K.
出版情報: Advanced interconnects and contacts : symposium held April 5-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.387-,  1999.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 564
6.

国際会議録
国際会議録
6. Characterization of Plated Cu Thin Film Microstructures
Gignac, L. M. ; Rodbell, K. P. ; Cabral, C., Jr. ; Andricacos, P. C. ; Rice, P. M. ; Beyers, R. B. ; Locke, P. S. ; Klepeis, S. J.
出版情報: Advanced interconnects and contacts : symposium held April 5-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.373-,  1999.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 564
7.

国際会議録
国際会議録
7. IN-SITU X-RAY DIFFRACTION AND RESISTIVITY ANALYSIS OF CoSi2 PHASE FORMATION WITH AND WITHOUT A Ti INTERLAYER AT RAPID THERMAL ANNEALING RATES
Cabral, C., Jr. ; Clevenger, L. A. ; Stephenson, G. B. ; Brauer, S. ; Morales, G. ; Ludwig, K. F., Jr.
出版情報: Applications of synchrotron radiation techniques to materials science II : symposium held November 27-December 2, 1994, Boston, Massachusetts, USA.  pp.253-,  1995.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 375
8.

国際会議録
国際会議録
8. The Future of Silicide for CMOS Contacts
Roy, R. A. ; Cabral, C., Jr. ; Lavoie, C.
出版情報: Advanced interconnects and contacts : symposium held April 5-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.35-,  1999.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 564
9.

国際会議録
国際会議録
9. Light Scattering Measurement of Surface Topography During Formation of Titanium Silicide
Lavoie, C. ; Cabral, C., Jr. ; Clevenger, L. A. ; Harper, J. M. E. ; Jordan-Sweet, J. ; Saenger, K. L. ; Doany, F.
出版情報: Diagnostic techniques for semiconductor materials processing II : symposium held November 27-30, 1995, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.163-,  1996.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 406
10.

国際会議録
国際会議録
10. Classification of the Modes of Dissociation in Immiscible Cu-Alloy Thin Films
Barmak, K. ; Lucadamo, G. A. ; Cabral, C., Jr. ; Lavoie, C. ; Harper, J. M. E.
出版情報: Advanced interconnects and contacts : symposium held April 5-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.341-,  1999.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 564