1.

国際会議録
国際会議録
1. Boundary layer model to account for thick mask effects in photolithography
Tirapu-Azpiroz, J. ; Burchard, P. ; Yablonovitch, E.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Three  pp.1611-1619,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
2.

国際会議録
国際会議録
2. Tuning MEEF for CD control at 65-nm node based on chromeless phase lithography (CPL)
Van Den Broeke, D.J. ; Laidig, T.L. ; Wampler, K.E. ; Hsu, S. ; Shi, X. ; Hsu, M. ; Burchard, P. ; Chen, J.F.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.579-591,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889