1.

国際会議録
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1. The Smart-Cut Process: Status and Developments
Aspar, B. ; Lagahe, C. ; Moriceau, H. ; Jalaguier, E. ; Mas, A. ; Rayssac, O. ; Biasse, Soubie; B. ; Bruel, M. ; Auberton-Hevre, A.J. ; Barge, T. ; Letertre, F. ; Maleville, C.
出版情報: Semiconductor wafer bonding : science, technology, and applications : proceedings of the international symposia.  pp.48-59,  1999.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-35
2.

国際会議録
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2. Unibond SOI wafers achieved by Smart-Cut process
Bruel, M. ; Aspar, B. ; Maleville, C. ; Moriceau, H. ; Auberton-Herve, A.J. ; Barge, T.
出版情報: Proceedings of the Eighth International Symposium on Silicon-on-Insulator Technology and Devices.  pp.3-14,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-23
3.

国際会議録
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3. Unibond SOI Wafers Achieved by Smart-Cut Process
Bruel, M. ; Aspar, B. ; Maleville, C. ; Moriceau, H. ; Auberton-Herve, A.J. ; Barge, T.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Semiconductor Wafer Bonding : science, technology, and applications.  pp.13-24,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-36
4.

国際会議録
国際会議録
4. Detailed Characterization of Wafer Bonding Mechanisms
Maleville, C. ; Rayssac, O. ; Moriceau, H. ; Blasse, B. ; Baroux, L. ; Aspar, B. ; Bruel, M.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Semiconductor Wafer Bonding : science, technology, and applications.  pp.46-55,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-36
5.

国際会議録
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5. *HIGH TEMPERATURE ANNEALING OF SIMOX LAYERS: PHYSICAL MECHANISMS OF OXYGEN SEGREGATION
Jaussaud, C. ; Margail, J. ; Stoemenos, J. ; Bruel, M.
出版情報: Silicon-on-insulator and buried metals in semiconductors : symposium held November 30-December 3, 1987, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.17-28,  1988.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 107
6.

国際会議録
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6. 1-3 MeV B+ AND B+ IMPLANTS FOR C-MOS TECHNOLOGY
De Pontcharra, J. ; Spinelli, P. ; Bruel, M.
出版情報: Ion beam processes in advanced electronic materials and device technology : symposium held April 15-18, 1985, San Francisco, California, U.S.A..  pp.115-122,  1985.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 45
7.

国際会議録
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7. *HIGH TEMPERATURE ANNEALING OF SIMOX LAYERS PHYSICAL MECHANISMS OF OXYGEN SEGREGATION
Jaussaud, C. ; Margail, J. ; Stoemenos, J. ; Bruel, M.
出版情報: Fundamentals of beam-solid interactions and transient thermal processing : symposium held November 30-December 3, 1987, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.17-28,  1988.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 100
8.

国際会議録
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8. IMPLANTATION INDUCED FILAMENTARY STRUCTURES
Jaussaud, C. ; Maillot, B. ; Bruel, M.
出版情報: Ion implantation and ion beam processing of materials : symposium held November 1983 in Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.223-228,  1984.  New York.  North-Holland
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 27
9.

国際会議録
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9. Single-Crystal Semiconductor Layer Delamination and Transfer Through Hydrogen Implantation
Bruel, M. ; Aspar, B. ; Moriceau, H. ; Jalaguier, E. ; Lagahe, C.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Defects in Silicon.  pp.203-214,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-1
10.

国際会議録
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10. INVITED: SILICON ON INSULATOR WAFERS USING THE SMART CUT TECHNOLOGY
Auberton-Herve, A.J. ; Barge, T. ; Metral, F. ; Bruel, M. ; Aspar, B. ; Moriceau, H.
出版情報: Silicon materials science and technology : proceedings of the Eighth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.1341-1360,  1998.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-1(2)